HP1000G-CCR高温热台专为化学气相沉积、石墨烯生长设计，可用于显微镜/光谱仪，可用于气相沉积，石墨烯生长、高温材料等领域。可定制样品区。此款冷热台可在 30℃ ~ 1000℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，可以充入氮气、还原性气体、腐蚀性气体等。
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HP1000G-CCR高温热台专为化学气相沉积、石墨烯生长设计，可用于显微镜/光谱仪，可用于气相沉积，石墨烯生长、高温材料等领域。可定制样品区。
此款冷热台可在 30℃ ~ 1000℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个气密腔，可以充入氮气、还原性气体、腐蚀性气体等。
温控参数
温度范围 | 30℃ ~ 1000℃ |
加热块材质 | 氮化硅 |
传感器/温控方式 | S型热电偶 / PID控制 |
Z大加热 | +200℃/min （<850℃时）; min="">850℃时） |
Z小加热 | +0.5℃/min |
温度分辨率 | 0.1℃ |
温度稳定性 | ±1℃ |
软件功能 | 可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线 |
光学参数
适用光路 | 反射光路 *另有透射光路型号 |
窗片 | 可拆卸与更替的窗片 |
Z小物镜工作距离 | 8.8mm *截面图中WD |
上盖窗片观察 | 窗片范围Φ27mm，Z大视角±44° *截面图中θ1 |
结构参数
加热区/样品区 | 20mm *20mm |
腔高 | 3.5mm *样品Z大厚度 = 样品腔高 – 样品衬底厚度 |
样品衬底 | 默认为刚玉坩埚（Φ7 mmx3 mm） |
上盖 | 可调压力的窗盖，兼顾气密型与窗片旋转 |
气氛控制 | 气密腔，可充入还原性气体、腐蚀性气体 |
外壳冷却 | 通循环水，以维持外壳温度在常温附近 |
安装方式 | 水平安装 或 垂直安装 |
台体尺寸/重量 | 115 mm x 84 mm x 24 mm / 1000g |
配置列表
基本配置 | HP1000G-CCR高温热台 、mK2000B温控器 、外壳循环水冷系统 |
可选配件 | 冷热台安装支架 |
功能特点
适用于 显微镜/光谱仪 的超高温应用 |
30℃~1000℃ 可编程控温 |
20mm加热区 |
可充入保护气体的气密腔（另有真空腔型号） |
可从温控器或电脑软件控制，可提供软件SDK |
*可做定制或改动，详询苏州卡斯图 |
温控配件系列
用于Instec温控装置
适用范围
用于搭配Instec冷热台、Instec温控探针台、Instec温控晶圆夹盘、Instec冷热平板、Instec定制温控装置使用。
温控配件系列
安装支架：用于将温控装置固定在用户设备上 |
mK2000B温控器，含InstecAPP温控软件，温控装置必选 |
LN2-SYS液氮制冷系统：液氮泵+液氮罐+液氮管线 |
外壳循环水冷系统，帕尔贴式温控装置必选 |
MITO系列温控联用显微镜相机，含控制软件 |
LWDC2长工作距离聚光镜 |
真空系统：包括真空泵+真空管路，用于真空型温控装置 |
LN2-SYS液氮制冷系统
主要分为液氮泵和液氮罐两部分。使用时需用管路将温控装置串接在液氮罐和液氮泵之间，温控装置加热块内埋有封闭式进出管路，液氮泵受mK2000B控制进行抽气，把液氮从液氮罐内吸到温控装置的加热块中，实现温控装置主动降温。
外壳循环水冷系统
用于温控装置的外壳/底座的冷却。温控装置加热/制冷时，外壳/底座温度会被带得很烫/很凉，危害周遭人员设备及设备自身。用循环水让外壳温度保持在常温附近，可以预防此灾害。
mK2000B温控器
支持恒温、恒速率变温、暂停、编程温控功能。具有冷热独立的多段PID控制、可保存4套20段校准表等特点。可独立控制，也可从InstecAPP软件控制。
温度分辨率 | ±0.001℃ (热敏电阻)，±0.01℃ (RTD)，±0.1℃ (热电偶) |
控制接口 | USB虚拟串口 可选其他接口 |
可选项 | LVDC线性可调直流电源，用于降低电噪音 |
温控软件 | InstecAPP，可提供多语言SDK |
安装支架
针对用户设备定制，可让热台水平固定/垂直固定等，垂直光路/水平光路等的用户设备皆可适用。通常有：
圆环式（用于圆形载物台），平板式（用于方形载物台）、
载物台式（用于代替设备载物台）、立式（用于水平光路）。
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