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HS1500V

HS1500V高温热台专为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线，可定制样品区。此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个真空腔，可以充入氮气等保护气体也可抽真空，来防止样品高温下反应。

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产品详情

产品简介

HS1500V高温热台专为显微镜/光谱仪上的超高温应用设计，可用于陶瓷、冶金、地质、高温材料等领域。可加装样品接电引线，可定制样品区。
此款冷热台可在 30℃ ~ 1500℃ 范围内控温，同时允许光学观察和样品气体环境控制。热台窗盖与台体构成一个真空腔，可以充入氮气等保护气体也可抽真空，来防止样品高温下反应。

温控参数

温度范围	30℃ ~ 1500℃
加热块材质	耐高温陶瓷
传感器/温控方式	S型热电偶 / PID控制
Z大加热/制冷速度	+200℃/min （<850℃时）; min="">850℃时）
Z小加热/制冷速度	±0.5℃/min
温度分辨率	0.1℃
温度稳定性	±1℃
软件功能	可设温控速率，可设温控程序，可记录温控曲线

光学参数

适用光路	透射光路和反射光路
窗片	可拆卸与更替的窗片
Z小物镜工作距离	6.8 mm (标准) *截面图中WD
Z小聚光镜工作距离	13.3mm *截面图中CWD
透光孔	Φ2 mm *截面图中ΦVA
上盖窗片观察	窗片范围Φ15mm，Z大视角±48°(标准)
底部窗片观察	窗片范围Φ15mm，Z大视角±19° *截面图中θ2
高温下显微镜降温	吹气降温

结构参数

加热区/样品区	Φ7.5 mm
样品腔高	3.5 mm *样品Z大厚度 = 样品腔高 – 样品衬底厚度
样品衬底	默认为石英坩埚（Φ6 mmx1 mm）
上盖	可调压力的窗盖，兼顾气密型与窗片旋转
气氛控制	真空腔腔，可充入保护气体，也可抽真空
外壳冷却	通循环水，以维持外壳温度在常温附近
安装方式	水平安装或垂直安装
台体尺寸/重量	141 mm x 62 mm x 25.3 mm / 1350g

配置列表

基本配置	HS1500V高温热台、mK2000B温控器、外壳循环水冷系统
可选配件	冷热台安装支架、真空系统（仅用于真空型号）、样品接电引线

功能特点

适用于显微镜/光谱仪的超高温应用

30℃~1500℃ 可编程控温

Φ7.5 mm加热区

可充入保护气体的真空腔

可从温控器或电脑软件控制，可提供软件SDK

*可做定制或改动，详询苏州卡斯图

加高盖

适用于红外设备的超高温应用

增加加热区与红外玻璃距离，防止损坏

温控配件系列

用于Instec温控装置

适用范围

用于搭配Instec冷热台、Instec温控探针台、Instec温控晶圆夹盘、Instec冷热平板、Instec定制温控装置使用。

温控配件系列

安装支架：用于将温控装置固定在用户设备上

mK2000B温控器，含InstecAPP温控软件，温控装置必选

LN2-SYS液氮制冷系统：液氮泵+液氮罐+液氮管线

外壳循环水冷系统，帕尔贴式温控装置必选

MITO系列温控联用显微镜相机，含控制软件

LWDC2长工作距离聚光镜

真空系统：包括真空泵+真空管路，用于真空型温控装置

LN2-SYS液氮制冷系统

主要分为液氮泵和液氮罐两部分。使用时需用管路将温控装置串接在液氮罐和液氮泵之间，温控装置加热块内埋有封闭式进出管路，液氮泵受mK2000B控制进行抽气，把液氮从液氮罐内吸到温控装置的加热块中，实现温控装置主动降温。

外壳循环水冷系统

用于温控装置的外壳/底座的冷却。温控装置加热/制冷时，外壳/底座温度会被带得很烫/很凉，危害周遭人员设备及设备自身。用循环水让外壳温度保持在常温附近，可以预防此灾害。

mK2000B温控器

支持恒温、恒速率变温、暂停、编程温控功能。具有冷热独立的多段PID控制、可保存4套20段校准表等特点。可独立控制，也可从InstecAPP软件控制。

温度分辨率	±0.001℃ (热敏电阻)，±0.01℃ (RTD)，±0.1℃ (热电偶)
控制接口	USB虚拟串口可选其他接口
可选项	LVDC线性可调直流电源，用于降低电噪音
温控软件	InstecAPP，可提供多语言SDK

安装支架

针对用户设备定制，可让热台水平固定/垂直固定等，垂直光路/水平光路等的用户设备皆可适用。通常有：

圆环式（用于圆形载物台），平板式（用于方形载物台）、

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