新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采。

ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、 FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。

ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。

用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以满足任何应用需求。

经过改进的光学性能
以高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统经过进一步改进，具有长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。

与数码相机集成
现可使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息，以及对显微镜进行电动操作，以更可靠地进行观察和图像拍摄。

多种观察方法
采用透射照明观察时，用户可借助各类附件采用多种方法观察更多种类的标本。所有型号都具备明场、暗场、微分干涉、荧光、偏光和双光束干涉测量观察功能。此外， LV100DA 和LV100DA-U 还可提供透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。

LV系列所有型号：LV100ND  LV100DA-U  LV150N  LV150NA  LV150NL