HCP421V-PS是探针外部移动式的温控探针台，上盖带有可供显微镜观察的视窗，温度范围为 -190℃ ~ 400℃。设备支持对样品营造保护气体/真空环境，防止样品低温下结霜/氧化。设备包含4个可从外部进行三轴向移动的探针机构，更换点针位置时不需要重新充入气氛/抽真空，适用于需要频繁移动点针位置的实验应用。
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HCP421V-PS是探针外部移动式的温控探针台，上盖带有可供显微镜观察的视窗，温度范围为 -190℃ ~ 400℃。
设备支持对样品营造保护气体/真空环境，防止样品低温下结霜/氧化。设备包含4个可从外部进行三轴向移动的探针机构，更换点针位置时不需要重新充入气氛/抽真空，适用于需要频繁移动点针位置的实验应用。
功能特点
可编程精密控温。可独立控制，也可从上位机软件控制 |
探针可从外部移动，移动点针位置时无需中断气氛，操作耗时少 |
4探针，分别导通探针台外壳上的4个BNC接口 |
弯针探针，点针更精准，点针力度更大，电接触性更好 |
探针粗调范围约30mm x 30mm，微调范围10mm x 10mm x 10mm |
默认真空腔室，通向2个KF接头，可充保护气体 |
上盖带有样品观察窗 |
台体内置干燥气体管道，用于负温时对视窗的除霜 |
视窗可拆卸与更换，可用不同材质窗片实现不同波段光观察 |
软件可拓展性强，可提供LabView等语言的SDK |
#升级项# 性能可升级，详见 配置列表 |
可做改动或定制，例如霍尔探针台，详询苏州卡斯图 |
技术参数
温 控 性 能 | 温度范围 | -190℃ ～ 400℃ 负温需使用液氮制冷 |
温度分辨率 | 0.01℃ | |
温度稳定性 | ±0.05℃(at 100℃) 可提升稳定性 | |
Z小控温速度 | ±0.1℃/小时 | |
温度传感器 | 100Ω铂质RTD | |
温控方式 | LVDC式PID | |
结构 | 样品腔面积 | 30 mm x 28 mm |
*注：液氮泵型号不同，制冷表现也会有差异，请悉知。
配置列表
标 准 | HCP421V-PS温控探针台 | √ |
mK2000温度控制器 软件免费，控制线有多种接口供选 | √ | |
升 级 项 | 探针臂Z高可增加为六探针 | |
从 样品台面电接地 升级为 样品台面电悬空 | ||
从 BNC外壳电接地 升级为 BNC外壳电悬空 | ||
选 配 件 | 显微镜头 用于观察样品，升降支架可与探针台底座固定 | |
液氮制冷系统 包含液氮泵与液氮罐，使样品降到负温 | ||
外壳水冷配件 用常温水或冰水循环防止外壳过热 | ||
安装支架 把台体固定在使用平台上，防止滑动 | ||
温控联动显微镜相机 温度-图像联动工作，附软件 | ||
线性可变直流电源(LVDC) 装在温控器里，控制电噪音 | ||
真空系统(真空腔型号适用) 真空泵、真空计、真空管路 | ||
*注：产品有多种配置变化，详询苏州卡斯图 | ||
探针外部移动的优势
如左图，HCP421V-PS同时具有探针外部移动、样品真空控制的功能。能胜任低温、高温易氧化样品的电测试。并且在更换探针点针位置时，可以直接从外部操作。这样很增加实验速度的。
没有外部移动的探针台，要重新点针就要开盖，然后重新充入气氛或抽真空，等到气氛营造完才能正式测试——这个步骤通常是实验耗费的Z主要时间。HCP421V-PS重新点针时只要在外部操作，避免了这种窘境。
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